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EVG®620 NT
Smart NIL® UV Nanoimprint Lithography System
EVG®620NT SmartNIL®UV纳米压印光刻系统
具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG SmartNIL®技术,可达100 mm
技术数据
EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称,以 小的占位面积提供了 新的掩模对准技术。操作员友好型软件, 短的掩模和模具更换时间以及 服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对齐和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG SmartNIL技术。
SmartNIL是 的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现 的吞吐量,并具有显着的拥有 ,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景,纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的 ,高产量的替代光刻技术。
*分辨率取决于过程和模板
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