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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography)电子束直写系统 、
电子束曝光系统CABL-9000C series
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪 纳米科技提供 的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。
型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列 小线宽可达8nm， 小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean+2σ)，拼接精度20nm(mean+2σ)。
技术参数：
1 小线宽：小于10nm（8nm available)
2.加速电压：5-50kV
3.电子束直径：小于2nm
4.套刻精度：20nm(mean+2σ)
5.拼接精度：20nm(mean+2σ)
6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)
7.描电镜分辨率：小于2nm
主要特点：
1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪
2 电子束偏转控制技术
3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size)可达0.0012nm
4.采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.01mrad
5.应用领域 ，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳 米加工（例如单电子器件 器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。
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